В 2005 года компания Intel перешла на 65-нанометровый технологический процесс производства чипов, в 2007 была взята планка в 45 нанометров. Сегодня Intel объявила о том, что закончена разработка 32-нанометрового техпроцесса. Сообщается, что в производстве будет использоваться технология HKMG (high-k + metal gate) второго поколения. При этом транзисторы уменьшатся в размерах примерно вдвое, увеличив скорость работы на 22 процента, по сравнению чипами, производимыми по нынешней 45-нм технологии.
Перевод производственных мощностей на 32-нанометровый техпроцесс случится не ранее четвёртого квартала 2009 года, а появление первых устройств с новыми чипами намечено на 2010 год. Предполагается, что новая технология будет применяться при производстве платформы для нетбуков следующего поколения, носящая в настоящий момент кодовое имя Medfield. Благодаря этому, нетбуки и интернет-планшеты будущего окажутся значительно экономичней и при этом производительнее современных моделей.
